ZESTRON将参加于2010年NEPCON华南展期间举办的SMTA华南高科技会议。我们欢迎参观者在8月31日上午11：15分参加ZESTRON的技术讲座。 

 今年讲座主题为“纯水清洗工艺的局限性”。当很多公司仍然依赖纯水清洗工艺去除有机活性助焊剂时，最近的市场调查显示纯水已经开始达到其清洗极限，转而开始使用含有化学品的清洗工艺。该调查关注于化学品清洗工艺可增值的优点，例如降低总工艺成本、清洗后更好的绑定和涂敷效果、降低应用温度以及更大的工艺窗口。 

 此外，若您希望了解世界第一款pH值为中性的助焊剂清洗剂VIGON^® N 501以及各类清洗工艺，欢迎来到我们的展台（2C25）参观咨询。我们的工程师团队将现场解答您对新产品和工艺技术的所有问题。